Search results
- Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady / Tomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová . Praha : Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, 2021 . 249 stran
Dislocation Available Unavail./Only at library Issued Reservations volný výběr 1 0/0 0 0