1. Chemické procesní inženýrství a simulační metody I
Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady / Tomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová . Praha : Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, 2021. 249 stran
This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about
how we use cookies.