Number of the records: 1
Syntéza inovativních nanostruktur v GaN s využitím energetických iontových svazků
Title statement Syntéza inovativních nanostruktur v GaN s využitím energetických iontových svazků / Adéla Jagerová Personal name Jagerová, Adéla, (dissertant) Phys.des. 71 listů : grafy, schémata + 1 CD Note Vedoucí práce Anna Macková Abstract Unikátní vlastnosti předurčují monokrystaly GaN k použití jako moderní materiálu v oblasti fotoniky a spintroniky. Vynikající vlastnosti umožňují modulaci a zároveň zesílení optického záření nebo ovládání spinů dopantů externím polem. Technika iontové implantace je jednou z možností, jak vytvořit tenké vrstvy s význačnými optickými nebo magnetickými vlastnostmi. Strukturální změny způsobené implantací ionty vzácných zemin a kovů do monokrystalů nebo po implantačním žíhání nebyly dosud dobře objasněny. Krystalické vzorky různých krystalografických řezů budou implantovány rozličnými ionty a následně žíhány. Koncentrační profily dopantů budou studovány metodou Rutherfordova zpětného rozptylu iontů (RBS). Analýza bude provedena na urychlovači Tandetron 4130 MC pomocí iontového svazku 2,0 MeV He+. Aby bylo možné studovat změny způsobené implantačním procesem, bude vliv žíhání na obnovení hostitelské mřížky zkoumán metodou RBS/channeling a dalšími komplementárními metodami pro získání komplexních informací o strukturálních změnách a funkčních vlastnostech připravených nanostruktur. Due to the unique properties of GaN continue to be used as advanced materials in the field of photonics and spintronics. The outstanding properties allow modulating and simultaneously also amplifying optical radiation or spin carrier influencing by the external field. The ion-implantation technique is a way to form the layers with the extraordinary optical or magnetic properties. The structural changes caused by rare earth and metal ion implantation or by post-implantation annealing have not yet been well clarified. The crystalline samples of various crystallographic orientations will be implanted by various ions and sub-sequently annealed. The concentration profiles of the incorporated atoms will be studied by Rutherford backscattering spectroscopy (RBS). The analysis will be performed at a Tandetron 4130 MC accelerator using a 2.0 MeV He+ ion beam. In order to study the damages introduced by the implantation process, the influence of the annealing procedure on the recovery of the host lattice will be examined by RBS/channelling measurements and other complementary analytical methods to have a comprehensive information about the structural changes and the functional properties of the investigated nanostructures. Another responsib. Macková, Anna, 1973- (thesis advisor) Another responsib. Univerzita J.E. Purkyně v Ústí nad Labem. Katedra fyziky (degree grantor) Subj. Headings nanotechnologie Subj. Headings iontová implantace * fotonika * spintronika * RBS - kanálování * ion implantation * photonics * spintronics * RBS channeling Form, Genre bakalářské práce Conspect 62 - Technika všeobecně UDC 62-022.532 * (043)378.22 Country Česko Language čeština URL https://portal.ujep.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=00174559 Document kind Diploma theses 
Call number Barcode Sublocation Volný výběr Info DA 6406 3300706406 sklad C In-Library Use Only
Number of the records: 1