Number of the records: 1  

Chemické procesní inženýrství a simulační metody I

  1.   Borrow
    Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady / Tomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová   .  Praha : Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, 2021 . 249 stran
    Dislocation Available Unavail./Only at library Issued Reservations
    volný výběr10/000
    View book information on page www.obalkyknih.cz
      Borrow

Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.

Accept allSettingsReject all