Košík

  Odznačit vybrané:   0
  1. Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady / Tomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová   .  Praha : Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, 2021 . 249 stran
    Umístění Volné Nedostupné/Prezenčně Vypůjčené Rezervace
    volný výběr10/000

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.