Košík

Záznam byl přidán do košíku

1.Advances in CMP/polishing technologies for the manufacture of electronic devices
Půjčit

Advances in CMP/polishing technologies for the manufacture of electronic devices / edited by Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa . Oxford : William Andrew, 2012 . xii, 317 s.

Umístění Volné Nedostupné/Prezenčně Vypůjčené Rezervace

volný výběr 1 0/0 0 0
Z košíku
Citace
Bookmark

Vybrané dokumenty
Citace

citace PRO
Půjčit

Pro plnou funkčnost těchto stránek je nutné povolit JavaScript. Zde jsou instrukce jak povolit JavaScript ve Vašem webovém prohlížeči.