Počet záznamů: 1
Chemické procesní inženýrství a simulační metody I
- Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady / Tomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová . Praha : Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, 2021 . 249 stran
Umístění Volné Nedostupné/Prezenčně Vypůjčené Rezervace FZP - Daniel Bůžek, Ing., Ph.D. 0 0/1 0 0 volný výběr 1 0/0 0 0
Počet záznamů: 1