Počet záznamů: 1  

Advances in CMP/polishing technologies for the manufacture of electronic devices

  1. Údaje o názvuAdvances in CMP/polishing technologies for the manufacture of electronic devices / edited by Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa
    Obálkový názevAdvances in CMP polishing technologies
    Údaje o vydání1st ed.
    Vyd.údajeOxford : William Andrew, 2012
    Fyz.popisxii, 317 s. : il., grafy
    ISBN978-1-4377-7859-5 (váz.)
    Poznámky o skryté bibliografii a rejstřícíchObsahuje bibliografie a rejstřík
    Dal.odpovědnost Doi, Toshiro K., 1947- (editor)
    Marinescu, Ioan D. (editor)
    Kurokawa, Syuhei (editor)
    Předmět.hesla broušení * fyzika povrchů pevných látek * elektronika * čisticí technika
    Forma, žánr monografie
    Konspekt621.38 - Elektronika
    MDT621.923 * 539.211 * 621.38 * 648.5.06 * (048.8)
    Země vyd.Velká Británie
    Jazyk dok.angličtina
    Druh dok.Knihy
    SignaturaČár.kódDislokaceVolný výběrInfo
    KB 302423300049222volný výběr D450 2012Doba výp. 31 dní

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.