Počet záznamů: 1
Advances in CMP/polishing technologies for the manufacture of electronic devices
Údaje o názvu Advances in CMP/polishing technologies for the manufacture of electronic devices / edited by Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa Obálkový název Advances in CMP polishing technologies Údaje o vydání 1st ed. Vyd.údaje Oxford : William Andrew, 2012 Fyz.popis xii, 317 s. : il., grafy ISBN 978-1-4377-7859-5 (váz.) Poznámky o skryté bibliografii a rejstřících Obsahuje bibliografie a rejstřík Dal.odpovědnost Doi, Toshiro K., 1947- (editor)
Marinescu, Ioan D. (editor)
Kurokawa, Syuhei (editor)Předmět.hesla broušení * fyzika povrchů pevných látek * elektronika * čisticí technika Forma, žánr monografie Konspekt 621.38 - Elektronika MDT 621.923 * 539.211 * 621.38 * 648.5.06 * (048.8) Země vyd. Velká Británie Jazyk dok. angličtina Druh dok. Knihy 
Signatura Čár.kód Dislokace Volný výběr Info KB 30242 3300049222 volný výběr D450 2012 Doba výp. 31 dní
Počet záznamů: 1